東北大学
学際科学フロンティア研究所

先端学際基幹研究部

島津 武仁Takehito Shimatsu

教授情報・システム領域

研究分野 磁性薄膜、室温接合技術、薄膜プロセス工学、電子デバイス工学
主な研究テーマ
  • 半導体やセラミクスのウエハの新しい室温接合技術(原子拡散接合法)に関する研究
  • 磁気異方性エネルギーが大きな新しい磁性薄膜の形成と,超高密度ストレージ
  • メモリ等への応用に関する研究
  • ナノスケールに微細加工された磁性薄膜のスピンの動きの解明とデバイス応用に関する研究
所属学会 日本磁気学会、日本金属学会、米国電気学会(IEEE)
研究概要 超高真空技術を用いた高性能磁性薄膜の形成とウエハ室温接合技術

知的で人間性豊かなコミュニケーションを実現する情報通信技術(ICT)の革新を進め、サステナブルで安心・安全な社会を実現するためには、新しい電子材料とデバイス技術を基盤とした人と自然環境にやさしいICTデバイスおよび機器の創成が必要である。そのためには、金属等の薄膜表面や固体中の物性解明と、その知見に基づくナノスケールの構造制御や新材料開発が必須となる。本研究領域では、超高真空技術を利用した清浄雰囲気中の薄膜形成による構造制御技術を用いて、材料開発からデバイス応用に至る下記のような研究を行う。

1.高機能な電子デバイスやMEMSの実現に必要となる,半導体やセラミクスのウエハの新しい室温接合技術(原子拡散接合法)に関する研究

2.スピンの動きを拘束する磁気エネルギー(磁気異方性)が大きな新しい磁性薄膜の形成と,超高密度ストレージやメモリなどのデバイスへの応用に関する研究

3.ナノスケールに微細加工された磁性薄膜のスピンの動きの解明とデバイスへの応用に関する研究

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