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東北大学 島津研究室は室温接合技術と磁性薄膜の研究室です。

TEL. 022-217-5493

〒980-8577 仙台市青葉区片平2丁目1番1号

研究内容Research contents

1. 原子拡散接合法による室温接合技術とデバイス形成への応用


_ウエハの室温接合技術は,熱に弱い電子回路等を形成したウエハや,熱膨張係数の著しく異なるウエハの接合等に有用であり,将来の高機能電子デバイスや,パワー用デバイス,光学デバイス等を作成する上で重要となっています.
_我々は,接合するウエハの表面に薄い微結晶金属膜を形成し,その表面エネルギーと原子再配列現象を利用して,室温でウエハを接合する原子拡散接合法を提案し,その基礎特性とデバイス形成への応用に関する研究を展開しています.この方法は,ウエハの材質によらず接合できることや,金属薄膜の材料や膜厚を自由に選ぶことができることから,様々なデバイス形成に向けた研究を企業と共同で実施しています.また,近年は,放熱用金属,ポリマー等の室温接合技術としての応用研究も行っています.


2. 大きな磁気異方性薄膜の形成と電子デバイスへの応用に関する研究


_磁気ハードディスクは情報爆発社会を支えるデータセンターのサーバ等における基幹ストレージです.その更なる高密度化に向けて,熱エネルギーやマイクロ波をアシストしながら記録するエネルギーアシスト記録等の研究が行なわれています.
_我々は,清浄雰囲気中での規則合金薄膜の低温形成技術を利用して,次世代エネルギーアシスト用のL10-FePt規則合金グラニュラ媒体の基礎研究を企業と共同で行っています.様々な添加材料を用いたグラニュラ構造の形成と大きな磁気異方性Kuの両立,L10-FePt-X三元系規則合金の研究等,幅広い視点から研究を実施しています.
_また,反強磁性結合したグラニュラ膜を用いたマイクロ波アシスト磁化反転機構とその高密度媒体への応用に関する基礎研究も行っています.


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